摘要:
本文系统介绍了几种线形等离子体源的特点及其应用,根据激励源的不同分别称为直流、射频、甚高频、微波、双频线形等离子体源,有磁场辅助的称为磁场增强线形等离子体源。与传统的大面积等离子体源不同,线形等离子体源仅需在一维方向实现均匀、稳定的等离子体,采用多个线形结构并排,或者与被镀样品在水平/垂直方向以适当速度运动,即可获得大面积均匀的薄膜沉积。近年来,研究人员采用磁场约束技术,减少带电粒子在器壁的复合损失,进一步提高等离子体的密度、均匀度和稳定性。线形等离子体及磁场增强线形等离子体密度 > 1011 cm−3,不均匀度 < ±5% (L >1 m),被广泛用于Si3N4、SiO2、光伏电池硅本征层、纳米金刚石等薄膜的大面积沉积,具有很重要的应用价值和科学意义。