AMC  >> Vol. 5 No. 1 (January 2017)

材料化学前沿
Advances in Material Chemistry
Vol.5 No.1(2017), Paper ID 19584, 10 pages
DOI:10.12677/AMC.2017.51001

化学气相沉积法制备MoS2的研究进展
Research Progress on MoS2 Prepared by Chemical Vapor Deposition

王 洁,陈秋月,张永平:西南大学材料与能源学部,重庆

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王洁, 陈秋月, 张永平. 化学气相沉积法制备MoS2的研究进展[J]. 材料化学前沿, 2017, 5(1): 1-10. http://dx.doi.org/10.12677/AMC.2017.51001