MS  >> Vol. 8 No. 5 (May 2018)

材料科学
Material Sciences
Vol.8 No.5(2018), Paper ID 25119, 9 pages
DOI:10.12677/MS.2018.85067

沉积氧压对二氧化钒薄膜结构、光电性能及其MIT相变特性的影响研究
The Influence of Oxygen Pressure on the Structure, Optoelectronic Properties, and MIT Characters of VO2 Thin Films

陶 欣,陆 浩,李 派,卢寅梅,何云斌:湖北大学材料科学与工程学院,功能材料绿色制备与应用教育部重点实验室(湖北大学),湖北 武汉

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陶欣, 陆浩, 李派, 卢寅梅, 何云斌. 沉积氧压对二氧化钒薄膜结构、光电性能及其MIT相变特性的影响研究[J]. 材料科学, 2018, 8(5): 573-581. https://doi.org/10.12677/MS.2018.85067