S. Lee, H. Seo, and G. Lucovsky, et al. Bulk defects in nano-crystalline and in non-crystalline HfO2-based thin film dielectrics. Thin Solid Films, 2008, 517(1): 437–440.

相关文章:
在线客服:
对外合作:
联系方式:400-6379-560
投诉建议:feedback@hanspub.org
客服号

人工客服,优惠资讯,稿件咨询
公众号

科技前沿与学术知识分享