外延生长的菱方相Hf0.5Zr0.5O2薄膜的铁电性
Ferroelectric Properties of Rhombohedral in Epitaxically Grown Hf0.5Zr0.5O2 Films
祝 祺：南京航空航天大学理学院，江苏 南京；杨 浩：南京航空航天大学空天信息材料与物理工信部重点实验室，江苏 南京
版权 © 2017 祝 祺, 杨 浩。本期刊文章已获得知识共享署名国际组织(Creative Commons Attribution International License)的认证许可。您可以复制、发行、展览、表演、放映、广播或通过信息网络传播本作品；您必须按照作者或者许可人指定的方式对作品进行署名。