电子气体中金属杂质的捕集及分析方法综述
Capture and Analytical Methods of Metal Impurities in Electronic Gases
DOI: 10.12677/AMC.2018.64013, PDF,   
作者: 许春慧：浙江师范大学含氟新材料研究所，浙江 金华；谭 慧, 钟 军*, 李正全*：衢州氟硅技术研究院，浙江 衢州
关键词: 电子气体；金属杂质；捕集；分析方法；Electronic Gases； Metal Impurities； Capture； Analytical Methods
摘要: 电子气体是指在半导体及其它电子产品生产过程中所用到的高纯度气体，随着微电子工业的发展，电子气体的纯度和产品质量之间的关系日益密切，尤其是金属杂质的存在对半导体器件质量及成品率影响很大。因此，ppb (10−9)至ppt (10−12)级金属杂质的捕集及检测对电子气体的生产过程尤为重要。本文对电子气体中金属杂质的捕集以及分析方法做了文献综述，并对其今后的研究方向进行了展望。
Abstract: The electronic gases are high purity gases which are used for production of semiconductor devices and other electronic products. With the development of electronic industry, the relationship be-tween the purity of electronic gases and product quality is getting closer and closer. Especially, the existence of metal impurities has great influence on the quality and yield of semiconductor devices. Therefore, the capture and detection of metal impurities from ppb (10−9) to ppt (10−12) is par-ticularly important for the production of electronic gases. In this paper, we summarized the dif-ferent capture and analytical methods of metal impurities and pointed out the development future.
文章引用：许春慧, 谭慧, 钟军, 李正全. 电子气体中金属杂质的捕集及分析方法综述[J]. 材料化学前沿, 2018, 6(4): 111-118. https://doi.org/10.12677/AMC.2018.64013

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