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● 王富耻. 材料现代分析测试方法[M]. 北京: 北京理工大学出版社, 2006: 218.
● 何智兵, 吴卫东, 许华, 张继成, 唐永建. 不同氧氩比例对氧化铪(HfO2)薄膜的结构及性能的影响[J]. 真空科学与技术学报, 2006, 26(2): ...
● K. Hasegawa, P. Ahmet, N. Okazaki, et al. Amorphous stability of HfO2 based tern...
● 邓文渊, 李春, 金春水. 电子束蒸发和离子束溅射HfO2紫外光学薄膜[J]. 中国光学与应用光学, 2010, 3(6): 630-636.
● 邵起越, 袁涛, 李爱东, 董岩, 方峰, 蒋建清, 刘治国. 新型无碳前体在高k氧化物薄膜化学气相沉积上的应用[J]. 功能材料, 2008, 39(4): ...
● 马紫微, 苏玉荣, 谢毅柱, 赵海廷, 刘利新, 李健, 谢二庆. 溅射气压对HfO2薄膜结构和光学性能的影响[J]. 材料导报, 2012, 26(10): ...
● 艾万君, 熊胜明. 单层二氧化铪(HfO2)薄膜的特性研究[J]. 光电工程, 2012, 39(2): 134-140.
● 谈国强, 贺中亮, 刘剑, 博海洋, 宋亚玉, 娄晶晶, 李锋娟. 二氧化铪(HfO2)薄膜制备的研究进展[J]. 陶瓷, 2009, 2: 10-12.
● H. L. Li, Y. C. Sun, W. Wang and H. Hutchinson. Neurocomputing Van der Pauw func...
● 王静, 孙以材, 刘新福. 利用多项式拟合规范化方法实现范德堡函数的高精度反演[J]. 半导体学报, 2003, 24(8): 817- 821.
● 孙以材, 孟庆浩, 宫云梅, 赵卫萍, 武建平. 四探针Mapping自动测试仪中电阻率温度系数的规范化拟合多项式的应用[J]. 电子学报, 2005, 33(...
● 孙以材. 半导体测试技术[M]. 北京: 冶金工业出版社, 1984.
● 孙以材, 石俊生. 在矩形样品中Rymazewski公式适用条件的分析[J]. 物理学报, 1995, 441(12): 1869-1878.
● 孙以材, 潘国峰, 杨茂峰, 叶威, 张鹏. 绘制硅单晶电阻率等值线的Mapping技术[J]. 半导体学报, 2008, 29(7): 1281-1285.
● 孙以材, 王伟, 屈怀泊. 四探针电阻率微区测量改进的Rymaszewski法厚度修正[J]. 纳米技术与精密工程, 2008, 6(6): 454-457.
● 刘新福, 孙以材, 张艳辉, 陈志永. 用改进的Rymaszewsk公式及方形四探针法测定微区的方块电阻[J]. 物理学报, 2004, 53(8): 2461...
● 张艳辉, 孙以材, 刘新福, 陈志永. 斜置式方形探针测量单晶断面电阻率分布mapping技术[J]. 半导体学报, 2004, 25(6): 682-686.
● M. G. Buehler, W. R. Thurber. An experimental study of various cross sheet resis...
● 孙以材, 刘新福, 高振斌, 孟庆浩, 孙冰. 微区薄层电阻四探针测试仪及其应用[J]. 固体电子学研究与进展, 2002, 22(1): 93-99.
● 孟庆浩, 孙新字, 孙以材. 薄层电阻测试Mapping技术[J]. 半导体学报, 1997, 18(9): 701-705.
● Y. C. Sun, O. Ehrmann, J. Wolf, et al. The correction factors and their new curv...
● Y. C. Sun, O. Ehrmann, J. Wolf, et al. Determi-nation of the areas of a square s...
● Y. C. Sun, J. S. Shi and Q. H. Meng. Measurement of sheet resistance of cross mi...
● 孙以材, 张林在. 用改进的Van der Pauw法测定方形微区的方块电阻[J]. 物理学报, 1994, 43(4): 530-539.
● R. Rymuszewski. Empirical method of calibrating a 4-point mi- croarray for measu...
● J. van der Pauw. A method of measuring spe-cific resistivity and Hall Effect for...
● 孙以材, 汪鹏, 孟庆浩. 电阻率测试理论与实践[M]. 北京: 冶金工业出版社, 2011.
● M. D. Toney. Reaction specificity in pyridoxal phosphate en-zymes. Archives of B...
● V. N. Foltyn, I. Bendikov, J. De Miranda, et al. Serine racemase modulates intra...
● M. A. Smith, V. Mack, A. Ebneth, et al. The structure of mam-malian serine racem...

● 王富耻. 材料现代分析测试方法[M]. 北京: 北京理工大学出版社, 2006: 218.

● 何智兵, 吴卫东, 许华, 张继成, 唐永建. 不同氧氩比例对氧化铪(HfO2)薄膜的结构及性能的影响[J]. 真空科学与技术学报, 2006, 26(2): ...

● K. Hasegawa, P. Ahmet, N. Okazaki, et al. Amorphous stability of HfO2 based tern...

● 邓文渊, 李春, 金春水. 电子束蒸发和离子束溅射HfO2紫外光学薄膜[J]. 中国光学与应用光学, 2010, 3(6): 630-636.

● 邵起越, 袁涛, 李爱东, 董岩, 方峰, 蒋建清, 刘治国. 新型无碳前体在高k氧化物薄膜化学气相沉积上的应用[J]. 功能材料, 2008, 39(4): ...

● 马紫微, 苏玉荣, 谢毅柱, 赵海廷, 刘利新, 李健, 谢二庆. 溅射气压对HfO2薄膜结构和光学性能的影响[J]. 材料导报, 2012, 26(10): ...

● 艾万君, 熊胜明. 单层二氧化铪(HfO2)薄膜的特性研究[J]. 光电工程, 2012, 39(2): 134-140.

● 谈国强, 贺中亮, 刘剑, 博海洋, 宋亚玉, 娄晶晶, 李锋娟. 二氧化铪(HfO2)薄膜制备的研究进展[J]. 陶瓷, 2009, 2: 10-12.

● H. L. Li, Y. C. Sun, W. Wang and H. Hutchinson. Neurocomputing Van der Pauw func...

● 王静, 孙以材, 刘新福. 利用多项式拟合规范化方法实现范德堡函数的高精度反演[J]. 半导体学报, 2003, 24(8): 817- 821.

● 孙以材, 孟庆浩, 宫云梅, 赵卫萍, 武建平. 四探针Mapping自动测试仪中电阻率温度系数的规范化拟合多项式的应用[J]. 电子学报, 2005, 33(...

● 孙以材. 半导体测试技术[M]. 北京: 冶金工业出版社, 1984.