APP  >> Vol. 10 No. 12 (December 2020)

掺磷多晶硅的干法刻蚀工艺研究
Research on Dry Etching Process of Phosphorus-Doped Polysilicon

刘 瑞,白 雪,武晓玮,葛 欢,赵万利,孙俊敏,李 玲,吴 昊:国家电网,全球能源互联网研究院有限公司,北京;先进输电技术国家重点实验室,北京

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刘瑞, 白雪, 武晓玮, 葛欢, 赵万利, 孙俊敏, 李玲, 吴昊. 掺磷多晶硅的干法刻蚀工艺研究[J]. 应用物理, 2020, 10(12): 509-518. https://doi.org/10.12677/APP.2020.1012066